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技術文章
ARTICLES在半導體制造工藝中，多功能掩膜版光刻機是實現高精度微結構圖案轉移的關鍵設備。正確操作這一精密儀器不僅能夠確保高質量的產品輸出，還能有效延長設備壽命。本文將詳細介紹多功能掩膜版光刻機的正確使用步驟，幫助您掌握從準備到完成的每一個細節。一、準備工作1、環境檢查與調整在開始操作之前，請確保實驗室或生產車間的潔凈度符合要求。通常情況下，光刻工藝需要在百級或更高級別的潔凈室環境中進行。檢查并調節環境溫度和濕度，保持在推薦范圍內（如23±2°C，相對濕度40%-60%），以...
